寧波材料所承擔的中科院重大裝備研制項目順利通過驗收
2010年6月22-23日，寧波材料所承擔的中國科學院重大科研裝備研制項目——“雙彎曲磁過濾陰極電弧復合磁控濺射鍍膜裝置”,順利通過了中國科學院計劃財務(wù)局組織的專家驗收。驗收組由來自沈陽科儀、中科院物理所、蘭化所、固體所、金屬所等有關(guān)單位的專家組成。
驗收會上，項目負責人、寧波材料所表面工程與再制造事業(yè)部研究員汪愛英向?qū)＜医M做了項目研制工作、經(jīng)費決算和用戶使用報告。技術(shù)測試組從研制裝備的運行、使用情況、和重點開展的技術(shù)測試實驗結(jié)果角度，做了技術(shù)測試報告。驗收專家組現(xiàn)場考察了研制的裝備系統(tǒng)并審核了相關(guān)技術(shù)資料，進行了認真提問和討論，認為項目組完成并部分超過了合同書規(guī)定的各項指標內(nèi)容，驗收材料齊全，經(jīng)費使用合理，一致同意通過驗收。
同時，專家組對該項目完成情況也給予了較高評價，指出該研制裝備不僅為寧波材料所更好完成高性能碳膜材料研究工作提供了良好技術(shù)平臺，而且項目執(zhí)行過程中與區(qū)域特色企業(yè)的緊密結(jié)合，也為促進我院重大科研裝備成果的進一步工程應(yīng)用發(fā)揮了積極作用。
專家組技術(shù)測試現(xiàn)場
項目驗收現(xiàn)場
項目背景：目前，具有高離化率、高沉積速率的陰極電弧沉積技術(shù)（CVA）是沉積ta-C超硬碳膜的主要方法，但制備過程中存在的宏觀大顆粒協(xié)同沉積和薄膜中的高殘余應(yīng)力關(guān)鍵問題，使其廣泛應(yīng)用受到極大限制。國內(nèi)外采用不同結(jié)構(gòu)設(shè)計的磁過濾技術(shù)雖在一定程度上可緩解大顆粒的污染問題，但在沉積速率和設(shè)備復雜度等方面尚存在不足。在2008年院裝備研制項目資助下，項目組通過系統(tǒng)理論計算、優(yōu)化結(jié)構(gòu)設(shè)計、關(guān)鍵部件選型與加工等大量工作，成功研制出了一套具有我國自主知識產(chǎn)權(quán)的運行可靠、先進的雙彎曲磁過濾陰極真空電弧復合磁控濺射沉積裝置。該裝置兼具宏觀大顆粒過濾有效、等離子體傳輸高效、大面積均勻低溫沉積的優(yōu)點，而且結(jié)合研制的技術(shù)成熟、易于實現(xiàn)金屬沉積的磁控濺射復合技術(shù)特點，通過工藝參數(shù)調(diào)控，采用該裝置能夠可控制備出不同結(jié)構(gòu)、功能設(shè)計的高性能薄膜材料。目前，項目組已初步制備出超硬（64GPa）、強膜基結(jié)合力（60N）、低應(yīng)力（<6GPa）、低摩擦系數(shù)（0.1）、表面光滑的高質(zhì)量ta-C碳膜材料，掌握了超薄ta-C碳膜可控技術(shù)，并實現(xiàn)了濺射制備超硬TiN（47GPa）薄膜材料工藝技術(shù)新突破。該裝備的研制成功，不僅為我所承擔的相關(guān)碳膜科研任務(wù)提供了重要的技術(shù)平臺支持，也將進一步推動MEMS、信息存儲、航空航天等高技術(shù)領(lǐng)域用高質(zhì)量碳膜、金屬（化合物）薄膜材料技術(shù)的發(fā)展。
（供稿：表面事業(yè)部 柯培玲/周毅 攝影：周毅）